透過獨家技術實現高密度化,提供Nodule少的高品質ITO靶材。
提供以高性能 IGZO 為主的氧化物半導體靶材。
適用於圓筒形濺鍍設備的高品質靶材,能有效提升生產效率並實現均勻成膜。
抑制Particle產生,並有助於提升成膜製程穩定度的次世代ITO 靶材。
三井金屬製造並可客製化各類濺鍍靶材,從 Cu、Al、Ti、Mo 等金屬靶材,至 In₂O₃、ZnO、SnO₂、AZO、T...
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