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新型濺鍍靶材 WL-TCO™ 量產上市。
濺鍍靶材是什麼
濺鍍靶材是指在 PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）中的濺鍍製程中，用於在基板上形成微細且均勻薄膜的關鍵材料。 該類材料廣泛應用於半導體、顯示器，以及各類電子裝置與光學元件等領域，是現代精密製造不可或缺的核心材料之一。 三井金屬在 ITO 靶材、IGZO 靶材等關鍵材料領域擁有豐富實績，透過高品質濺鍍靶材的開發與穩定供應，持續推動半導體與顯示器產業的技術發展。
薄膜材料事業部介紹
薄膜材料事業部介紹
強項為「製造與開發能力」
三井金屬的薄膜材料事業部，運用其在有色金屬領域累積的材料製造技術與知識，開發薄膜形成所需的濺鍍靶材。該材料對 OLED 及 LCD 面板的製造不可或缺。在 ITO、IGZO 等材料方面具備豐富經驗，並由日本與台灣兩個據點提供穩定的品質與供應。能依據客戶用途開發最適合的薄膜材料，其靈活的開發能力是我們的重要優勢。
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新型濺鍍靶材 WL-TCO™ 量產上市。
