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新型濺鍍靶材 WL-TCO™ 量產上市。
濺鍍靶材是什麼
濺鍍靶材是指在 PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）中的濺鍍製程中，用於在基板上形成微細且均勻薄膜的關鍵材料。 該類材料廣泛應用於半導體、顯示器，以及各類電子裝置與光學元件等領域，是現代精密製造不可或缺的核心材料之一。 三井金屬在 ITO 靶材、IGZO 靶材等關鍵材料領域擁有豐富實績，透過高品質濺鍍靶材的開發與穩定供應，持續推動半導體與顯示器產業的技術發展。
薄膜材料事業部介紹
薄膜材料事業部介紹
優勢在於「卓越的製造技術與研發能力」
本事業部活用在有色金屬領域長年累積的材料開發經驗，致力於開發OLED及LCD面板製造不可或缺的薄膜形成用濺鍍靶材。以 ITO、IGZO 等材料開發技術為基礎，結合日本與台灣雙據點的生產體制，提供穩定的品質與供貨能力。同時，依據客戶不同的應用需求，靈活開發最適合的薄膜材料，這正是我們最重要的競爭優勢。
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新型濺鍍靶材 WL-TCO™ 量產上市。
