薄膜材料事業部的發展歷程
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1977
於中央研究所展開透明導電膜（ITO）研究
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1980
著手開發 ITO 靶材
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1985
於三池稀有金屬工廠內興建靶材製造工廠，並正式竣工
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1988
將靶材部門獨立拆分，設立薄膜材料事業部
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1999
建立超高密度 ITO（>99.5%）量產體制，實現穩定供應
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2000
於台灣設立製造據點（台灣特格股份有限公司），完善海外供應體制
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2004
取得 ISO 與環境、安全相關認證，強化品質管理體制
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2012
成功量產全長 1,000–1,400 mm 的超大型 ITO 靶材，對應次世代顯示面板的市場需求
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2013
建立 IGZO 氧化物半導體靶材量產體制，以因應先進顯示器市場需求
在三井金屬貿易（上海）有限公司深圳分公司設立業務據點
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2015
持續推動圓筒型靶材的製造、量產與認證，實現形狀多樣化並擴大供應能力
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2020
以日本與台灣雙據點及大型化生產能力，持續因應穩定供應與多樣化需求
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2025
強化開發體制：開發低可實現低Particle特性的WL-TCO及高移動度材料
