什麼是濺鍍？

濺鍍形成薄膜

濺鍍是一種薄膜形成技術，透過在真空環境中激發的氬氣電漿產生的離子照射靶材，使飛散出的原子沉積於基板表面而形成薄膜。靶材為圓形、方形等板狀材料，並以高精度接合於背板（Backing Plate）後使用。此技術具備優異的膜厚均勻性與組成控制能力，是電子元件製造中不可或缺的薄膜沉積製程。