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새로운 스퍼터링 타겟 소재 'WL-TCO™' 양산 및 판매 개시 안내
스퍼터링 타겟 재료란
스퍼터링 타겟 재료는 스퍼터링이라는 PVD 공정에서 기판 위에 미세하고 균일한 막을 형성하기 위해 사용되는 재료입니다. 디스플레이와 반도체를 비롯해 전자 디바이스 및 광학 부품 등 다양한 분야에 적용됩니다. 미쓰이금속은 ITO, IGZO 등 다양한 소재 분야에서 풍부한 실적을 보유하고 있으며, 고품질 타겟 재료의 개발과 안정적인 공급을 통해 디스플레이 및 반도체 산업의 기술 발전에 기여하고 있습니다.
박막 재료 사업부 소개
강점은 “제조 기술과 개발력”
미쓰이금속의 박막재료 사업부는 비철금속 분야에서 축적한 소재 제조 기술과 노하우를 바탕으로 OLED 및 LCD 패널 제조에 필수적인 PVD 공정용 스퍼터링 타겟 재료를 개발하고 있습니다. ITO 및 IGZO 소재에 대한 풍부한 경험을 기반으로 일본과 대만의 두 생산 거점에서 안정적인 품질과 공급 체계를 구축하고 있습니다. 또한 고객의 용도에 최적화된 PVD 재료를 개발할 수 있는 유연한 개발 역량이 당사의 큰 강점입니다.
Products
박막 재료 제품
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ITO 타겟독자적인 기술로 고밀도화를 실현하여 노듈이 적은 고품질 ITO를 제공합니다.
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IGZO 타겟 / 산화물 반도체 타겟고성능 IGZO를 중심으로 한 산화물 반도체 타겟을 제공합니다.
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원통형 스퍼터링 타겟 (Rotary Target)고효율로 균일한 PVD 형성을 구현하는 원통형 스퍼터링 장비에 최적화된 고품질 타겟입니다.
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WL-TCO™ (차세대 ITO 타겟)파티클 발생을 억제하고 성막 공정의 안정화에 기여하는 차세대 ITO 타겟입니다.
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기타 제품당사는 Cu, Al, Ti, Mo 등의 금속 타겟 재료, In₂O₃, ZnO, SnO₂, AZO, TCO 재...
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새로운 스퍼터링 타겟 소재 'WL-TCO™' 양산 및 판매 개시 안내
