원통형 스퍼터링 타겟 (Rotary Target)
박막 재료 사업부

원통형 스퍼터링 타겟 (Rotary Target)

고효율로 균일한 PVD 형성을 구현하는 원통형 스퍼터링 장비에 최적화된 고품질 타겟입니다.

개요

대면적 및 고효율화 요구에 대응하는 원통형 타겟

원통형 스퍼터링 타겟은 회전하면서 성막을 수행함으로써 막 두께의 균일성을 향상시키고, 재료 이용 효율을 크게 높일 수 있습니다. 이로 인해 2000년대 후반부터 대면적 패널 및 고스루풋이 요구되는 장비를 중심으로 적용이 확대되어 왔습니다.
특히 중국 시장을 중심으로 원통형 스퍼터링 장비의 도입이 확대되고 있으며, 저파티클화 및 장수명화가 요구되는 제조 현장에 적합한 형상으로 주목받고 있습니다.
당사는 ITO 및 IGZO를 비롯해 WL-TCO 및 고이동도 재료 등 다양한 조성의 원통형 타겟을 공급하고 있으며, 최신 장비에 적합한 고균일 PVD 형성과 안정적인 공정을 실현합니다。

특징·강점

  1. 독자적인 고밀도화 기술

  2. 균일한 미세구조 확보

  3. 저파티클로 안정적인 성막 구현

  4. 조성 제어 및 장비 사양에 맞춘 맞춤 대응 가능

  5. 조직 관찰 및 막 특성 측정 등 충실한 분석 체계 구축

적용 분야

• 평판 디스플레이
• 터치패널
• 차량용 디스플레이
• 태양전지
• 광학막
• 건축 자재 분야(Low-E 유리, 기능성 창호, 건축 파사드)
• 차량용 유리의 PVD 코팅

원통형 스퍼터링 타겟(Rotary Target)에 대해 더 알고 싶은 분들께

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