개요
고밀도·고품질 ITO 타겟의 제품 개요
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당사의 독자적인 신제법(슬러리 성형 기술)입니다.
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MMF법 : 3,5,7,10%-SnO2 조성 대응
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당사의 ITO 타겟은 독자적인 MMF법 및 CIP법을 통해 고밀도를 구현하고, 노듈 및 파티클 발생을 크게 억제합니다.
크기와 형상에 대한 맞춤 대응도 유연하게 가능하며, 디스플레이, 모니터, 터치패널, 태양전지 등 다양한 용도에 최적의 성막 품질을 제공합니다.
특징·강점
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파티클 발생 억제
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우수한 안정성
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고품질
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수율 개선 및 생산성 향상에 기여
적용 분야
• 평판 디스플레이 및 터치패널
• 스마트폰용 커버글라스
• 반도체 디바이스 전극
• 태양전지용 투명 전극
• 광학 필름 및 광학 코팅
ITO 타겟에 대해 더 알고 싶은 분들께
제품 도입 사례 및 기술 상담 등에 대해서는 아래를 통해 부담 없이 문의해 주시기 바랍니다.
