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关于新型溅射靶材 WL-TCO™开始量产上市的通知。
什么是溅射靶材？
溅射靶材是指在称为溅射的薄膜形成工艺中，用于在基板上形成微细且均匀薄膜的材料。广泛应用于显示器、半导体以及各类电子器件和光学部件等领域。三井金属在 ITO、IGZO 等材料领域拥有丰富经验，通过开发和供应高品质靶材，持续推动显示器及半导体领域的技术发展。
薄膜材料事业部介绍
优势在于强大的制造和研发能力
三井金属薄膜材料事业部充分发挥在有色金属领域积累的材料制造技术，开发对有机EL及LCD面板制造不可或缺的溅射靶材（用于薄膜形成）。在ITO、IGZO等材料方面拥有丰富经验，并通过日本与中国台湾两大生产基地，实现稳定的质量与供应。我们的一大优势在于具备灵活的开发能力，能够根据客户的应用需求，开发并提供最适合的薄膜材料。
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