Technology

技术介绍

为您介绍三井金属独有的靶材技术。三井金属不仅掌握了溅射靶材的制造技术,还拥有针对主要原料铟和镓的独有提纯与回收技术。通过从制造过程中产生的废料中回收高纯度金属,并将其作为薄膜材料加以再利用,从而实现了稀有资源的有效利用和稳定供应。我们致力于为显示器和半导体领域提供可持续的材料供应,并推动资源循环利用。

Sputtering Target

什么是溅射靶材?

这是在通过溅射法在基板上形成薄膜时所使用的金属、氧化物等材料。

什么是溅射靶材?

Sputtering

溅射

本文将讲解半导体和FPD制造中不可或缺的薄膜形成用溅射技术。

什么是溅射?

Indium and Gallium Recycling

铟、镓的回收利用

将铟、镓回收为原料粉,实现可持续的资源循环利用。

铟-镓的
回收利用

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