什么是溅射？

通过溅射进行薄膜形成

溅射是一种通过将真空中激发的氩等离子体中的离子轰击到靶材上，将靶材散射的原子沉积在基板表面的薄膜形成技术。靶材有圆形和矩形等形状的平面靶材，通过和背板的高精度绑定后使用。其具有膜厚均匀，易于成份控制的优点，是电子器件制造中不可或缺的成膜工艺。