实现高密度低颗粒的三井金属靶材技术
三井金属的溅射靶材是显示器和半导体领域形成薄膜的关键材料。
特别是在用于 LCD 和 OLED 应用的 ITO 透明导电薄膜，以及在下一代器件应用中备受关注的 IGZO 氧化物半导体靶材方面，我司拥有丰富的经验。
通过独有的浆料形成技术，实现生产可抑制结瘤和颗粒产生的 "高密度、低颗粒、大尺寸"靶材，有助于提高薄膜品质及成膜工艺。
另外，除了平面靶材外也能生产圆筒形旋转靶材，这是在最新设备上进行高效成膜的理想选择。
此外，作为一家能够综合提炼和回收铟/镓废料的制造商，我司通过将稀缺资源的循环使用与稳定供应相结合，为客户的生产线提供可持续价值。
靶材种类
溅射靶材根据用途分类为金属系，氧化物系，氮化物/碳化物系等化合物，除了用于显示器ITO透明导电膜，IGZO氧化物半导体，半导体布线，工具的硬质涂层薄膜之外，近年还扩展到了钙钛矿太阳能电池的薄膜形成用途。
三井金属提供这些应用于不同场景的均匀，高密度，易于控制成分的高品质靶材。
独有的MMF法靶材生产技术
三井金属的靶材通过独有的MMF法（浆料成型）制造。
这是一种将细微原料粉末浆化后均匀成型，从而获得高密度无缺陷靶材的制造方法。
这种工艺能够对应大尺寸及复杂形状的生产，并能保证ITO及IGZO的薄膜质量稳定性。
