薄膜材料事业部 发展
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1977
中央研究所开始对透明导电膜进行研究
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1980
启动ITO靶材的开发
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1985
三池稀有金属工厂内 靶材制造工厂竣工
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1988
靶材部门独立成为薄膜材料事业部
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1999
建立了超高密度 ITO（>99.5%）的量产体制，确保稳定供应
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2000
在台湾建立生产基地（台湾特格股份有限公司），并完善海外供应体制
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2004
取得ISO及环境・安全相关认证，强化质量管理体系
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2012
实现全长1,000～1,400 mm超大型ITO靶材的量产，满足新一代显示需求
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2013
确立IGZO氧化物半导体靶材的量产体制，满足尖端显示器的需求
三井金属贸易（上海）有限公司深圳分公司成立
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2015
持续实现形状多样化，扩大供应能力，包括圆柱形靶材的生产、量产和认证
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2020
依托日本与台湾两大生产基地及大规模产能，持续应对多样化需求，实现稳定供货
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2025
强化开发体制 开发实现低颗粒的WL-TCO / 开发高迁移率材料
