圆柱形溅射靶材（Rotary Target）

概述

满足大面积、高效率需求的圆筒形靶材

圆筒形溅射靶材在成膜过程中通过旋转方式，能够提升膜厚均匀性，并大幅提高材料利用率，因此自2000年代后期以来，在需要大面积面板和高产能的设备中逐渐普及。特别是在以中国市场为中心的区域，圆筒形溅射设备的采用不断扩大，该产品作为适合要求低颗粒化和长寿命化的制造现场的靶材形态而备受关注。
本公司除供应ITO、IGZO外，还提供WL-TCO、高迁移率材料等多种配比的圆筒形靶材，可实现适配最新设备的高均匀性成膜和稳定的工艺。