提供以高性能IGZO为核心的氧化物半导体靶材。
适用于圆柱形溅射设备的高品质靶材,实现高效率与均匀成膜。
能有效抑制微粒的产生,有助于制程稳定的新一代ITO靶材
本公司生产并提供定制各类溅射靶材,包括Cu、Al、Ti、Mo等金属靶材,以及In₂O₃、ZnO、SnO₂、AZO、TCO...
独有技术可实现高密度,并提供高质量的 ITO,减少结瘤。
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