概要
高密度、高品質 ITO 靶材的產品概要
-
本公司獨家開發的新製程技術（漿料成型技術）
-
MMF製法：適用3、5、7和10wt%的SnO2(氧化錫)組成
本公司的 ITO 靶材，採用獨家的MMF製法與CIP製法實現高密度化，可大幅抑制Nodule與Particle的產生。並可靈活對應尺寸與形狀的客製化需求，為顯示面板、顯示器、觸控面板及太陽能電池等多種應用提供最佳的成膜品質。
特色/優勢
-
抑制Particle產生
-
優異的穩定性
-
高品質
-
有助於改善良率與提升生產效率
用途範例
・平面顯示器與觸控面板
・智慧型手機用保護玻璃
・半導體元件電極材料
・太陽能電池的透明導電電極
・光學薄膜與光學鍍膜製程
想進一步了解 ITO 靶材的客戶
如需了解產品導入案例或相關技術，歡迎隨時與我們聯繫。
