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薄膜材料事業部

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三井金屬製造並可客製化各類濺鍍靶材,從 Cu、Al、Ti、Mo 等金屬靶材,至 In₂O₃、ZnO、SnO₂、AZO、TCO 材料等氧化物靶材,以及 SiN、AlN 等氮化物與化合物靶材,產品範圍廣泛。 可為顯示器、半導體、太陽電池、光學薄膜、建材玻璃及感測器等多樣薄膜形成製程,提供最適材料。

概要

可對應多種材料的濺鍍靶材製造技術

本公司以長年累積的靶材製造技術為基礎,可靈活對應金屬、氧化物、氮化物等多種材料。透過粒徑控制、均質化與高密度化等獨家技術,可依客戶需針對新材料及特殊組成提供客製化服務。根據用途及成膜特性,提供最合適的靶材與產品解決方案。歡迎隨時與我們聯繫洽詢。

用途範例

・平面顯示器
・半導體元件
・鈣鈦礦(Perovskite)太陽能電池、次世代 TCO 薄膜(潔淨能源領域)
・光學薄膜、紅外線塗層(航太與航空用途)
・生物感測器
・醫療保健設備用功能性薄膜
・車載元件
・建築玻璃
・消費性電子產品

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關於 薄膜材料 產品的諮詢
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