高純度・高密度・高機能

支持体となるキャリア箔に1.5～5μmの極薄銅箔を形成した微細配線回路形成に最適な銅箔です。

高周波信号の伝送ロスを極限まで低減する、なめらかな表面処理技術。

多用途に使われるキャパシタ材料。

結晶サイズをコントロールする技術により、繰り返し曲げても折れにくい柔軟性を実現。

最適な配光特性を持ち、ディスプレイやLED照明用途を想定しています。

三井金属の負熱膨張材は、高い収縮効果、柔軟なカスタマイズ性、広い適用温度範囲を兼ね備え、幅広い用途で最適な性能を発揮します。

独自のデンドライト形状による低い見かけ密度により、少量で高い導電性と低コスト化を実現。

酸化/炭化タンタル・ニオブは、高融点・耐食性を持つ化合物です。溶媒抽出で高純度化し、電子セラミック、超硬工具、光学レンズ向けに提供しています。

希土類塩やフッ化物など、セラミックスや電子材料などの分野で広く利用される各種製品をご提供しています。

当事業部のメタル製品は、磁性材料・水素貯蔵材料など、様々な産業分野で活用されています。

多種多様なレアアース酸化物・希土類化合物の製品ラインナップを取り揃えております。

SiCウェハー向け基板用研磨材は、SiC表面を短時間で原子レベルまで平滑化できる高性能な研磨材料です。

酸化セリウム系研磨剤は、液晶パネルやハードディスクのガラス研磨用です。

造形技術と三井金属が培ってきた独自のセラミックス焼成技術を融合させた、高精度・高精細な3D造形ソリューションです。

超高硬度と軽量性を備えた炭化ホウ素質ファインセラミックスです。耐摩耗性と耐薬品性に優れ、防護や高耐久用途に適します。

炭化珪素に金属シリコンを含浸させた複合材料です。高気密性と高温強度、耐酸化性と熱伝導性に優れ、過酷環境に適します。

無加圧焼結炭化珪素セラミックスです。他のSiC材料より高温使用に優れ、耐食性と耐熱衝撃性を備えた材料です。

高強度と耐摩耗性に優れた炭化珪素ファインセラミックスです。高温でも強度低下が少なく、過酷環境に適します。

高強度と高靱性を備えたジルコニア質ファインセラミックスです。耐熱性と耐食性に優れ、高温・腐食環境で性能を発揮します。

バランスに優れ広く使われるアルミナ質ファインセラミックスです。機械・熱・電気特性に優れ、経済性と高温安定性を備えます。

高融点・高硬度を備えた導電性ファインセラミックスです。耐摩耗性と耐食性に優れ、高温・高負荷環境で性能を発揮します。

アルミナ原料に特殊結合材を加え高温焼成した耐火物です。高純度・高耐火度・高温安定性を備え、多様な特性があります。

耐熱衝撃性と高温強度に優れるファインセラミックスです。低熱膨張で耐食性と絶縁性を備え、高負荷用途に適しています。

パーティクル発生を抑制し、成膜プロセスの安定化に貢献する新世代のITOターゲットを提供します。

太陽電池、建材、半導体関連の用途等で、お客様のニーズにあった、あらゆるターゲットの開発・製造を行っています。

高効率で均一成膜を実現する円筒形スパッタリング装置に最適な高品質なターゲットを提供します。

高性能IGZOを中心とした酸化物半導体ターゲットを提供します。

独自技術で高密度化を実現し、ノジュールの少ない高品質ITOを提供します。