IGZOターゲット/酸化物半導体ターゲット
薄膜材料事業部

IGZOターゲット/酸化物半導体ターゲット

高性能IGZOを中心とした酸化物半導体ターゲットを提供します。

概要

有機EL・高精細ディスプレイを支えるIGZOターゲット

IGZOターゲットは、従来のアモルファスシリコンに比べて電子移動度が高く、TFTの高速駆動と低消費電力化を可能にする酸化物半導体材料です。これにより有機EL(OLED)や高精細ディスプレイで必要とされる高開口率・省エネ駆動を実現します。当社は高密度化と組成制御技術により、均一で安定したIGZOターゲットを供給し、次世代ディスプレイや高性能デバイスの高機能化に貢献します。

特徴・強み

  1. 高密度化

  2. 均質な微細構造

  3. 安定した膜品質

  4. 安定供給体制と品質管理

  5. 豊富な採用実績

用途例

・有機ELディスプレイや4K・8Kクラスの高精細ディスプレイ
・ゲーミングPC向け高速リフレッシュレートパネルのTFTバックプレーン

また、今後下記のような先端デバイスへの応用も期待されています。

・In₂O₃系材料との組み合わせによる次世代高移動度TFT
・フレキシブル/透明エレクトロニクス
・各種センサー
・メモリ一体型デバイス
・ニューロモルフィック/インメモリコンピューティング

IGZOターゲットについて詳しく知りたい方はこちら

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薄膜材料製品に関するお問い合わせ
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