薄膜材料事業部のあゆみ
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1977
中央研究所で透明導電膜（ITO）研究を開始
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1980
ITOターゲットの開発に着手
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1985
三池レアメタル工場内にターゲット製造工場を竣工
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1988
ターゲット部門を分離し、薄膜材料事業部を設立
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1999
超高密度ITO (>99.5%) の量産体制を確立、安定供給を実現
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2000
台湾に製造拠点（台湾特格股份有限公司）を設立、海外供給体制を整備
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2004
ISO／環境・安全の認証取得、品質管理体制を強化
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2012
全長1,000–1,400 mmの超大型ITOターゲットを量産化し、次世代ディスプレイに対応
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2013
IGZO酸化物半導体ターゲットの量産体制を確立、先端ディスプレイの要求に応える
三井金属貿易（上海）有限公司深圳分公司に営業所開設
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2015
円筒形ターゲットの製造・量産・認証取得など形状多様化と供給力拡大を継続
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2020
日本・台湾の二拠点＋大型生産能力により、安定供給と多様なご要望に対応継続
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2025
開発体制強化 低パーティクルを実現するWL-TCOの開発/高移動度材料の開発
