概要
高密度・高品質ITOターゲットの製品概要
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当社独自の新製法（スラリー成形技術）です。
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MMF法：3,5,7,10%-SnO2組成に対応
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当社のITOターゲットは、独自のMMF法・CIP法により高密度化を実現し、ノジュールやパーティクルの発生を大幅に抑制します。サイズや形状のカスタマイズにも柔軟に対応でき、ディスプレイ、モニター、タッチパネル、太陽電池など多様な用途に最適な成膜品質をご提供します。
特徴・強み
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パーティクル発生を抑制
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優れた安定性
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高品質
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歩留まり改善や生産性向上に貢献
用途例
・フラットパネルディスプレイやタッチパネル
・スマートフォン用カバーガラス
・半導体デバイスの電極
・太陽電池の透明電極
・光学フィルム・光学膜コーティング
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