円筒形ターゲット

概要

大面積・高効率化ニーズに応える円筒形ターゲット

円筒形ターゲットは、回転しながら成膜を行うことで膜厚均一性を高め、材料利用効率を大幅に向上させられることから、2000年代後半より大面積パネルや高スループットが求められる装置で普及が進んできました。
特に中国市場を中心に円筒型スパッタリング装置の採用が広がり、低パーティクル化や長寿命化が求められる製造現場に適した形状として注目されています。
当社はITO・IGZOに加え、WL-TCOや高移動度材料など多様な組成で円筒形ターゲットを供給しており、最新装置に適した高均一成膜と安定したプロセスを実現します。