SiC抛光液(NANOBIX™)
稀有材料事业部

SiC抛光液(NANOBIX™)

SiC抛光液是一种高性能抛光材料,可在短时间内使碳化硅表面光滑到原子水平。

概述

用于SiCWafer高性能研磨浆料 NANOBIX™

作为功率元器件(Power device)用途而备受关注的碳化硅(SiC)单晶,由于其非常坚硬的特性,要将其表面抛光到原子级的平滑度,需要优良的研磨技术和长时间的研磨。本公司利用迄今为止积累的抛光液开发技术,成功开发出了能够在极短时间内将SiC表面加工得极为平滑的抛光液。

特点/优势

  1. 通过MnO₂ 磨粒,可以在一次抛光中实现高速且低损伤的加工

  2. 可抑制C面和Si面的研磨速率差

  3. 抛光设备的清洗/SiCWafer容易清洗

  4. 可循环使用

使用实例

・用于SiCWafer抛光
・双组分混合型抛光液

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