
概述
用于SiCWafer高性能研磨浆料 NANOBIX™
作为功率元器件(Power device)用途而备受关注的碳化硅(SiC)单晶,由于其非常坚硬的特性,要将其表面抛光到原子级的平滑度,需要优良的研磨技术和长时间的研磨。本公司利用迄今为止积累的抛光液开发技术,成功开发出了能够在极短时间内将SiC表面加工得极为平滑的抛光液。
特点/优势
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通过MnO₂ 磨粒,可以在一次抛光中实现高速且低损伤的加工
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可抑制C面和Si面的研磨速率差
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抛光设备的清洗/SiCWafer容易清洗
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可循环使用
使用实例
・用于SiCWafer抛光
・双组分混合型抛光液
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